CVD设备到底有多牛,看了你就知道了!

DT高分子在线2018-06-19 16:51:46


DT导读

化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应(与PVD的本质区别),形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。



作为一种先进的生产方法,CVD与碳材料有着难分难舍的情缘。据小编了解,许多碳材料,比如石墨烯、碳纳米管,都可以采用CVD法得到完整结构的材料。CVD设备的诞生,可以称得上具有划时代的意义。近年来,碳纳米管与石墨烯的浪潮席卷了各个科学领域,引起科学界的广泛关注。近期工业界也开始投入开发碳纳米材料的产业化。这些材料拥有很多非凡的特性,例如热导率,导电性,机械强度等,这些材料成为很多新兴技术的最佳选择。



化学气相沉积(CVD) 法是能够生产高质量碳纳米管与石墨烯的主要方法。 此方法能满足高端产业的要求,所得产品具备可控性,可重复性以及大产量。


今天小编带大家看看几款不错CVD设备。这些设备主要有三大优势:


1,其热/等离子体化学气相沉积技术收专利保护;

2,样品可控温度均匀,气体分布均匀,重复性强,周期性短;

3,下面这家公司有过硬的技术经验,用相似的技术从小规模的科研设备做到大规模的量产设备。


BM Pro 4”-8” – 4至8寸材料研发设备

实验室级别设备

加热温度: 1050℃; 升温速度: 300℃/min

多至10种气体通道, 实时操控气压

热导以及等离子化学气相沉积

独立控制的顶部加热系统

用双波长红外监测来实时操控温度

湿式或干式真空泵


BM Glovebox- 用于先进2维材料生长,比如MoS2,h-BN

用于复杂材料以及危险气体

安全负载锁惰性气体手套箱

加热温度: 1000℃/min升温速度: 300℃/min

多至10种气体通道, 实时操控气压

热导以及等离子化学气相沉积

独立控制的顶部加热系统

用双波长红外监测来实时操控温度

干式真空泵


BM foil- 柔性薄膜为基底的批量生产设备

用于200mm2尺寸的薄膜

高质量CVD石墨烯 或碳纳米管

可以通过载体一次产两片 8X8 平方英寸

可以一时间在薄膜上长两片单面的或者一片双面的

在高温下的加载互锁传送材料来达到高产量


BM 300T –晶元自动产业化

用于200mm或300mm大规模生产晶元

晶元旋转来达到高级均匀性

3个热操控区域的基板加热, 最高温: 1050℃

热导以及等离子化学气相沉积

独立控制3个区域的顶部加热系统

先进的传送气体以及液体

干式真空泵


BM spider – 卷对卷大规模产业化

用于卷对卷大规模生产

常压碳纳米材料沉淀

独立或者生产线嵌入

温度高至: 1000摄氏度

非传送带的运输技术

薄膜宽度,最高速度 8m每小时

多种反应气体选项


这么多CVD设备,他们出自哪里?


他们来自2016中国国际碳材料大会的现场,出自爱思强(AIXTRON)公司。





爱思强(AIXTRON)是世界领先的半导体外延设备供应商(已被VLSI Research Inc.认可)。在2015年,爱思强的全球员工达750人,年收入€1.97亿欧元。该公司的技术解决方案在全球范围内被广大客户使用于制造电子和光电先进组件。用于此组件的材料包括化合物,硅,或有机半导体材料,以及碳纳米管、石墨烯等纳米。这种组件可用于光纤通信系统,无线和移动电话应用,光学和电子存储设备,计算,信号和照明。


在爱思强,其纳米设备部门主要负责提供生产高质量石墨烯,碳纳米管以及其他二维材料。纳米设备部门团队在化学气相沉积设备以及等离子体为基础反应的腔体设计上有领先的技术和丰富的经验。该碳纳米材料CVD设备被命名为黑魔术。此黑魔术设备的一系列产品已被销售至全球的大学,研究机构,公司用作石墨烯,碳纳米管,以及其他二维材料的生产。此部门在欧洲地区开展了许多学术圈以及工业界的合作项目,在市场上也占据领先地位。 比如,在全球所有一等大学实验室的碳纳米研究实验室里面,有将近70%用的都是此黑魔术CVD设备,生长出最高质量的材料来研发出最突出的实验成果。近几年来产业界也开始利用爱思强的小产量设备在碳哟米材料应用方面进入了中试阶段,同时也有产业界开始引入爱思强的大规模生产CVD设备。



2016中国国际碳材料大会上,来自爱思强的工艺科学家陈炳安博士CVD 石墨烯制备的进展作了重要报告



陈炳安博士在大会上作报告


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